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产品详情
ZY-1185设备采用全自动的控制方式，合理配备多套zui新研制的阴极电弧，有效保障弧源溅射的稳定性与均匀性，采用先进的多路进气系统，精准控制气体流量，满足您多种化合物膜层需求。装载##功率脉冲偏压电源，极##提高电粒子能量，从而获得####的膜层结合力和光洁度。
技术参数：
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炉体尺寸
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Φ1100×H850
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有效空间
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Φ550×H500
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应用技术
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HCD+ARC
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生产周期
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3-5小时/炉
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靶材数量
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12PCS
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工件转架结构
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下转架结构
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标准涂层
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TIN、CRN、ALTIN等
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可选涂层
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TIALCRN、TISIN、DLC等
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控制系统及软件
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PLC+触摸屏 组态软件
工业PC+ PLC+触摸屏
自己开发的专用镀膜软件
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硬件
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分子泵、罗茨泵、旋片泵
弧电源、脉冲偏压电源
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外围尺寸
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L4200×W3200×H2200
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功率
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70KW
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适用范围
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注塑、五金、压铸等模具
各种零件及切削刀具等
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产量/炉
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铣刀Φ10×70 680
刀粒Φ18×6 5000
滚刀Φ80×80 48
模具 500KG
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配套条件
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循环水压力：2-3KG 水量 10T/H
压缩空气：4-6KG
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工作气体
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Ar、N2、O2、C2H2等
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